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ABBWPA分析仪在半导体湿法过程监测的应用

  • 产品时间:2022-07-25 00:24
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简要描述:WPA是一种专为清除流程在线、动态监控而设计的分析设备。该设备可对半导体生产流程的清除、转印、去光胶液过程中所使用的各种拒绝十分严苛的溶液浓度展开监测,同时,一台WPA分析仪可监测多达八种有所不同的流路。 本文对使用SC1,SC2,DHF,BOE和SPM化学组份的清除流程优化问题展开重点探究。 通过案例分析对WPA应用于展开解释。 分析技术 电磁光谱的近红外(NIR)部分介于中外白(MIR)与红外线(VIS)之间。氢原子的基频与合频人组起到是该光谱区构成的主要机理。...

详细介绍
本文摘要:WPA是一种专为清除流程在线、动态监控而设计的分析设备。该设备可对半导体生产流程的清除、转印、去光胶液过程中所使用的各种拒绝十分严苛的溶液浓度展开监测,同时,一台WPA分析仪可监测多达八种有所不同的流路。 本文对使用SC1,SC2,DHF,BOE和SPM化学组份的清除流程优化问题展开重点探究。 通过案例分析对WPA应用于展开解释。 分析技术 电磁光谱的近红外(NIR)部分介于中外白(MIR)与红外线(VIS)之间。氢原子的基频与合频人组起到是该光谱区构成的主要机理。

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WPA是一种专为清除流程在线、动态监控而设计的分析设备。该设备可对半导体生产流程的清除、转印、去光胶液过程中所使用的各种拒绝十分严苛的溶液浓度展开监测,同时,一台WPA分析仪可监测多达八种有所不同的流路。  本文对使用SC1,SC2,DHF,BOE和SPM化学组份的清除流程优化问题展开重点探究。

通过案例分析对WPA应用于展开解释。  分析技术  电磁光谱的近红外(NIR)部分介于中外白(MIR)与红外线(VIS)之间。氢原子的基频与合频人组起到是该光谱区构成的主要机理。  ABBWPA分析仪利用FT-NIR光谱仪的优势,并融合非插手型的TeonClippIR+专利技术对溶液展开动态监测。

WPA分析仪利用光纤传导将来自光谱仪的NIR光传输至监测点。该配备可将分析仪主机加装在任何一般环境中,可与有害物质和环境互为隔绝,因此大大降低了湿法环境因素阻碍。

  使用NIR技术的检测缩主要各不相同意欲监测的化学组份的光谱性能。在液体状态下,可检测物质的浓度可低约100ppm(0.01%),这各不相同化学组份包含。  系统解释  1系统配置  WPA分析仪将FTIR光谱仪与特氟龙ClippIR+结合可实现非插手式的监测功能。

光谱仪还包括一个多分析仪模块,该模块可产生光波,不足以同时照耀八路有所不同的监测点。通过光缆,每个监测点均可在百米之外与分析仪连接。与机械多路转换仪器比起,该设计具备极高的重复性优点。

图2说明了一种系统配置,还包括有五个分析仪和三个腾出空位。  2采样方法  ClippIR+专利技术(闻图3)可通过现有的特氟龙管道构建在线、动态监测。加装方便快捷,且不必须管道横跨黏合新的修建或加装加热设备。

每ClippIR+仅有可钩至当前特氟龙管道的外表。来自光谱仪的NIR光可通过特氟龙管道传输,然后回到至光谱仪的八个检测器的其中一个检测器上。


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